電鍍設備的工藝（yì）要求具體有哪些

　　電鍍設備的工藝要求具體有（yǒu）哪些？電鍍設備的工藝要求：

　　1. 鍍層與基體金屬（shǔ）、鍍層與（yǔ）鍍層之間，應有良好的結（jié）合力。

　　2. 鍍（dù）層應結晶細致、平整、厚度均勻。

　　3. 鍍層應具有規定的（de）厚度和盡可能少的（de）孔隙。

　　4. 鍍層應具有規定的各項指標，如光亮度、硬度、導電性等。

　　5. 電鍍時間（jiān）及電鍍過程的溫（wēn）度，決定鍍層厚度的大小（xiǎo）。

　　6.環境（jìng）溫度為-10℃～60℃。

　　7.輸入電壓為220V±22V或380V±38V。

　　8.水處理設備最大工作噪（zào）聲應不大於80dB(A)。

　　9.相對濕度(RH)應不（bú）大於95%。

　　10.原水（shuǐ）COD含量為100mg/L～150000mg/L。